高纯氨产品是光电子、微电子手艺不可缺氨赡支持质料。普遍应用在半导体照明、平板显示、太阳能电池以及大规模集成电路制造领域中。高纯氨的质量直接影响质料的光学性能和电学性能以致器件的使用寿命。国际、海内都有重大的潜在市场。随着海内半导体工业的生长，对高纯氨的需求迅速增添，高纯电子气体国产化是生长的一定趋势。

    超高纯氨也是金属有机化合物化学气相淀积（MOCVD）手艺生产第三代化合物半导体质料氮化镓(GaN)的要害支持质料。MOCVD手艺制备氮化镓（GaN）要求所使用的氨必需高纯超净，其纯度水平为7N(99.99999%)。由于受手艺瓶颈和手艺壁垒的限制，一直以来海内高纯氨纯度抵达6.0N，难以知足GaN生长手艺的要求。随着我国“国家半导体照明工程”的启动，对GaN用要害支持质料的需求越发迫切。因此，突破GaN用超纯白氨的纯化手艺，实现超高纯氨规；，替换入口产品，势在必行。

    高纯超净氨是天生薄膜的最基础的成膜源，氧分子(O2)、水(H2O)和CO2是很是有害的杂质，其会导致淀积生长的金属及金属化合物活性膜的质量下降。高纯超净氨中的金属杂质对化合物半导体质料的制备是极其有害的，是影响其光电性能指标的要害因素之一，除掉高纯氨中氧分子(O2)、水(H2O)和金属杂质，总杂质含量降到0.1ppm以下是现在国际上气体纯化的难题，在项目的执行历程中，解决的要害手艺包括：

    1、纯化手艺：对应用于半导体领域的高纯气体纯度要求极高，特殊是影响半导体质料生长的氧、水以及其他杂质含量必需抵达ppm-ppb级。针对证料气体的杂质含量、理化性子，以高效吸赞许高效精馏为主要纯化要领，重点研制开发了选择性好、吸附容量大、纯化深度高的新型吸附剂、高性能催化剂，具有吸赞许催化两种功效，知足杂质脱除使用要求，本工艺特殊宜于规；。

    2、净化手艺：为了使高纯超净氨抵达预期的纯度和清洁度，对与气体接触的所有装备、容器、管路的材质举行预处置惩罚，做到无外貌吸附、无外貌化学反应、无粒子脱落、无死体积、密封性能好。在净化系统中，选择捕集效率高，孔径小的高效过滤器，极大降低产品中的灰尘粒子，抵达产品超纯清洁。

    3、剖析检测手艺：ppb级或ppt（10-9~10-12）级气体杂质、金属离子及灰尘粒子的检测是研制开发高纯氨必需解决的手艺要害，痕量杂质的检测基于建设可靠的剖析要领和先进的检测仪器。在引进了外洋先进的剖析仪器基础上，建设ppb-ppt级杂质剖析要领。特殊是水和金属杂质的剖析，无论在线照旧抽检都做到数据重复性、准确性。为包管产品质量提供手艺包管。

    4、工业化生产手艺：接纳吸附、精馏、超滤组合纯化手艺，更易于举行大流量高纯氨纯化处置惩罚；接纳具有立异性的工艺历程和操作条件，对吸附剂再外行艺举行刷新。吸附剂再生完成后，接纳特殊反吹手艺，作为下一吸附周期的过渡，使吸附剂恢复到最高活性，可以一连、稳固的生产高纯氨产品。