三氟化氮等特种电子气体高速生长
宣布时间: 2021-06-23 11:09:38
泉源: 凯发k8国际气体
作者: 小粤
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近年来,《中国制造2025》、《“十三五”国家战略性新兴工业生长妄想》、《关于集成电路生产企业有关企业所得税政策问题的通知》等政策帮助,我国超大规模集成电路、液晶显示器件、非晶硅薄膜太阳能电池等工业迅速生长。同时,含氟特种电子气体陪同这些行业的高速生长增添亦十分可观。
常用的含氟特种电子气体有六氟化硫(sf6)、六氟化钨(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。
三氟化氮(NF3)作为含氟特种气体的一类,是市场容量最大的电子特种气体产品,其常温下具有化学惰性,高温下则比氧气更生动、比氟更稳固,且易于处置惩罚。
三氟化氮主要用作等离子蚀刻气体和反应腔洗濯剂,适用于半导体芯片、平板显示器、光纤、光伏电池等制造领域。
和其他含氟电子气体相比,三氟化氮具有反应快、效率高的优点,尤其在对氮化硅等含硅材质的蚀刻中,具有较高的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物外貌不留任何残留物,同时也是很是优异的洗濯剂,并且对外貌无污染,能够知足加工历程需求。
氟化氮的主要生产工艺有化学法和熔盐电解法。其中化学合成法清静性高,但具有装备重大、杂质含量多的弱点;电解法更容易获得高纯度产品,但保存一定的铺张和污染。
现在,日本与海内生产高纯三氟化氮的厂家大多接纳NH4H氟气熔融盐电解法,而西欧国家则一样平常接纳直接化正当。
随着半导体、显示面板行业生产及消耗重心逐渐向中国大陆转移,加上主要质料均由海内供应,两头在内的工业链名堂决议了三氟化氮生产应用向海内转移是时势所趋。
我国半导体工业和面板工业维持较高的景心胸,三氟化氮作为面板、半导体生产加工历程中必不可少、且用量最大的特种电子气体,具有辽阔的市场空间。
凭证数据显示,2019年全球和中国的三氟化氮需求量划分为3.1和1.1万吨,划分同比增添10%和40%。从市场竞争名堂来看,恒久以来,三氟化氮的生产和销售厂家集中在美国、韩国、日本等外洋几家气体公司。其优势为产能大、品种齐全,劣势在于原质料均由中国海内采购,生产本钱和运输本钱较量高。
由于生产NF3气体的主要质料大部由海内供应,且半导体工业生产和消耗中央向中国大陆转移,决议了NF3未来生产向中国大陆转移的趋势。随着海内市场需求的增添和国产化率的提升,头部企业的市占率有望获得进一步提升。